光焱科技於26日發布新聞稿，嚴正反擊汎銓科技日前針對其提出的新台幣2億元專利侵權訴訟。汎銓科技在25日重訊中指控光焱科技侵害其「光損偵測裝置」發明專利，而光焱科技則強調，汎銓所持專利僅限於傳統金相顯微鏡技術，與光焱採用的次世代高光譜成像技術存在顯著世代差異，此訴訟實為以舊技術專利干擾市場新興技術發展。
專利戰火再起：光焱科技正面迎擊汎銓侵權指控
光焱科技發言人廖清霖指出，公司迄今尚未收到任何法院訴訟函件，並對同業在未經司法程序前，即試圖透過媒體發布資訊煙霧彈的行為深感遺憾。這類試圖以法律手段干擾市場正常運作、阻礙產業創新的舉動，光焱科技予以嚴正譴責。
光焱科技發言人廖清霖表示：「公司迄今尚未收到任何法院相關訴訟函件。光焱科技對於同業在未經司法程序前，即試圖透過媒體發布資訊煙霧彈，實則以法律手段干擾市場正常運作、阻礙產業創新之行為深感遺憾，並對此類不正當之競爭手段予以嚴正譴責。」
面對此波專利攻防，光焱科技提出以下核心論點：
- 公司深耕光學與光電子晶片檢測領域長達16年，所有核心產品均為團隊自主研發，並無使用其他公司技術之必要。
- 汎銓專利所依據的是傳統「金相顯微鏡」技術，與光焱採用的次世代「高光譜成像技術感測模組」存在本質上的世代差異。
- 光焱科技的營運、業務及設備出貨均正常進行，財務業務不受本次訴訟影響。
- 將積極配合司法程序進行答辯，以捍衛公司、客戶及全體股東之合法權益。
技術世代鴻溝：舊專利難以涵蓋新穎高光譜成像
光焱科技直指，這起專利侵權爭議的核心在於雙方檢測技術的「世代落差」。汎銓所宣稱的專利，其技術基礎是傳統的「金相顯微鏡」方案，主要用於光損量測。 相較之下，光焱科技則採用次世代的「高光譜成像技術感測模組」作為核心，這項先進技術能夠高度整合於客戶端的探針台或電測機等系統，直接進行矽光子光學檢測，而光損檢測僅是其多功能模組中的一項應用。
因此，光焱科技強調，試圖以舊時代的金相顯微鏡專利，來控告新世代的高光譜影像感測模組，在技術本質上是完全站不住腳的，兩者在原理與應用層面存在根本性差異。
專利效力辨析：從舉發案看技術保護範疇
針對汎銓在記者會上宣稱其專利曾挺過17項舉發而維持有效，光焱科技也提出專業見解反擊。根據公開資料檢視，該專利舉發案之所以不成立，關鍵在於當時的舉發人提出了更先進的檢測技術與零組件作為證據，但主管機關認定這些與汎銓採用的傳統金相顯微鏡技術「無關」。
有趣的是，這個結果恰好間接證明了汎銓的專利僅保障舊世代技術，進一步明確證實光焱科技所採用的高光譜成像系統與汎銓的技術截然不同。從這個角度來看，光焱科技的技術自然毫無侵權之疑慮。
展望與影響：智慧財產權應促進而非阻礙創新
產業界普遍認知，專利制度旨在保護特定的技術實施手段，而非將某個功能詞彙（例如「光損檢測」）註冊為商標，進而壟斷整個市場。光焱科技認為，不能因為汎銓針對其舊技術申請了專利，就無限上綱地認定市場上所有具備「光損檢測」功能的設備都侵害其權益。
話說回來，若依此荒謬邏輯推斷，近期國際光學大廠蔡司（Zeiss）宣佈進軍光損檢測領域，難道也構成對汎銓的侵權？這顯然凸顯了對方說法在產業技術與法律邏輯上皆有失偏頗。
這起專利爭議不僅是兩家公司的對抗，更折射出新舊技術交替之際，智慧財產權保護如何平衡創新與競爭的挑戰。對於快速發展的矽光子等前瞻技術領域而言，清晰且合理的專利界線，對於鼓勵技術研發與產業健康發展至關重要。