半導體檢測領域的專利戰火正熾，光焱科技（7728）面對汎銓科技（6830）高達兩億元的侵權指控，首次發佈官方聲明強力回擊。這場爭議不僅關乎兩家公司的智慧財產權，更揭示了「光損檢測」技術世代差異與市場壟斷的深層挑戰，引發業界廣泛關注，也讓這場高科技專利訴訟成為焦點。
表象：突如其來的專利重擊
當汎銓科技透過公開資訊觀測站及記者會，單方面宣稱光焱科技侵害其第I870008B號「光損偵測裝置」發明專利，並求償鉅額時，這無疑在業界投下了一枚震撼彈。然而，光焱科技隨即澄清，截至目前為止，公司並未收到任何法院相關訴訟函件。這不禁讓人思考，為何同業會在尚未經完整司法程序前，便選擇透過媒體發布資訊？光焱對此類競爭手段深感遺憾，並予以嚴正譴責，認為此舉恐阻礙產業創新。
真相：技術世代的鴻溝與專利界線
這起專利糾紛的核心，其實是兩家公司在檢測技術上的顯著世代差異。光焱科技指出，汎銓所宣稱的專利，其方案是採用傳統的「金相顯微鏡」進行光損量測。然而，光焱科技的核心技術，則是基於次世代、更為先進的「高光譜成像技術感測模組」，這項技術能夠高度整合於客戶端的系統，例如探針台或電測機上，直接執行矽光子光學檢測。對光焱而言，「光損檢測」僅是其在矽光子晶片檢測多功能模組中的一項應用。
「拿之前的金相顯微鏡專利，來告自家新世代的高光譜影像感測模組，在技術上是完全站不住腳的。」光焱科技在聲明中直言不諱。
關於汎銓在記者會上高調宣稱其專利曾挺過17項舉發而維持有效，光焱科技也提出了反擊。根據光焱檢視公開資料，該專利舉發案之所以不成立，主要原因在於當時舉發人提出的證據是更先進的檢測技術與零組件。主管機關因此認定這些證據與汎銓採用之傳統金相顯微鏡技術「無關」，這恰恰證明了汎銓的專利僅保障其自身技術。換句話說，這反而明確證實了光焱所採用的高光譜成像系統與汎銓的技術截然不同，自然毫無侵權之疑慮。
專利保障的是特定的技術實施手段，而非將一個通用詞彙壟斷。 光焱強調，不能因為汎銓針對其自有技術申請了專利，就無限上綱認定市場上所有具備「光損檢測」功能的設備皆侵害其權益。
「『專利』保障的是特定的技術實施手段，而非將『光損檢測』一詞註冊為商標來買斷市場，不能因為汎銓針對其自有技術申請了專利，就無限上綱認定市場上所有具備『光損檢測』功能的設備皆侵害其權益。」光焱科技明確指出，這關乎專利保護的範疇與市場公平競爭的原則。
各方角力：創新與壟斷的界線
這場專利戰不僅是兩家企業的較量，更是對整個半導體檢測產業生態的一次考驗。當一家公司試圖透過專利訴訟，將一個廣泛應用的功能性名詞與其特定技術綁定時，是否會扼殺其他廠商在同一領域的創新空間？尤其在矽光子晶片檢測這類新興且快速發展的領域，技術迭代速度極快，若舊有專利被過度延伸解釋，恐成為產業進步的絆腳石。市場競爭應鼓勵技術革新，而非透過法律手段構築不合理的壁壘。
深層影響：營運如常與司法應對
面對同業的不實指控與行銷操作，光焱科技深耕光學與光電子晶片檢測領域已長達16年，展現出其在業界的深厚實力與經驗。公司強調，目前營運、業務及設備出貨均正常進行，財務業務皆不受此次事件影響。這也為其客戶與股東注入一劑強心針。光焱表示，後續將積極配合司法程序進行答辯，以捍衛公司、客戶及全體股東的合法權益。
未解之問：專利戰火將如何重塑產業格局？
這場關於「光損檢測」專利侵權的爭議，最終會如何收場？它將為半導體檢測產業，特別是矽光子領域，樹立怎樣的專利保護與市場競爭典範？在技術快速演進的時代，專利的保護範圍與創新之間的平衡點究竟在哪裡，仍是業界必須持續思考的課題。