AI晶片分析平台掀專利戰!汎銓重拳控告光焱侵權求償2億,捍衛核心技術

事件總覽:AI晶片研發分析平台大廠汎銓科技,於2026年3月25日正式向智慧財產及商業法院提告,指控光焱科技侵害其「光損偵測裝置」發明專利,並求償新台幣2億元,這場科技巨擘間的專利戰已全面點燃,牽動半導體產業的智慧財產權保護神經。

📅 2026年3月25日:汎銓重磅提告,捍衛核心專利

在2026年3月25日上午,半導體先進製程材料分析的領航者汎銓科技(6830),正式向智慧財產及商業法院遞交民事訴訟狀,指控光焱科技股份有限公司(7728)侵害其擁有的中華民國第I870008B號「光損偵測裝置」發明專利。這項訴訟不僅要求光焱立即停止所有侵權行為,更進一步提出高達新台幣2億元的損害賠償請求,正式將雙方爭議推向司法殿堂。汎銓此舉,無疑是對其長期投入研發成果的強力捍衛,也向業界宣示其保護智慧財產權的堅定決心。

📅 2026年3月26日:光焱聲明引發關注,汎銓堅守司法程序

緊接著在2026年3月26日,光焱科技對外發布了相關聲明,使得這場專利爭議浮上檯面,引發市場高度關注。對於光焱科技所發布的說法,汎銓科技基於尊重司法程序的原則,選擇不針對個別技術爭議或其單方面陳述進行逐一回應。汎銓強調,關於雙方技術的實質差異、是否構成專利侵權,以及相關專利權利範圍的認定,這些都屬於高度專業的法律與技術判斷範疇,最終將由智慧財產及商業法院依據具體事證進行嚴謹審理,以確保公平公正。

💡 汎銓深耕技術:光損偵測裝置的關鍵價值

你可能會想,為什麼這項專利對汎銓如此重要?說真的,汎銓科技長期以來深耕於半導體先進製程材料分析、AI晶片分析平台及矽光子檢測技術領域,投入了大量研發資源才累積了今天的成果。其中,「光損偵測裝置」正是其關鍵核心技術之一,不僅已在台灣、日本及美國取得發明專利,更實際應用於矽光子元件的光損量測與定位分析。這項技術在高速光通訊、AI運算及光電整合等前瞻應用領域,都具備了不可替代的技術價值與產業重要性,可說是臺灣在全球科技競爭中,不可或缺的一塊拼圖。

⚖️ 司法程序啟動:汎銓呼籲誠實面對法律

既然官司已進入司法程序,汎銓科技也公開呼籲所有相關當事人,應以誠實的態度面對司法審理。他們明確表示,此次提起訴訟,是基於維護公司自主研發成果與智慧財產權的正當權益,這不僅是對臺灣整體科技產業價值與重要性的尊重,更是對全體股東與利害關係人負責的必要行動。汎銓一向重視技術創新與智慧財產保護,並致力於建立健全的產業競爭環境,期望透過合法途徑確保技術成果不受不當侵害,樹立臺灣科技產業捍衛專利與營業秘密的最高標準。

至今影響與未來展望

這場由汎銓科技對光焱科技提起的專利侵權訴訟,無疑是2026年臺灣半導體產業的一大焦點。它不僅突顯了「光損偵測裝置」這類關鍵技術在AI與矽光子時代的重要性,也將成為業界檢視智慧財產權保護力度的指標案例。隨著案件進入司法程序,雙方之間的技術爭議與法律攻防將持續受到高度關注。汎銓重申,將尊重法院審理結果,並依法保障公司及全體股東的合法權益。這起案件的最終判決,恐將對未來臺灣科技業的專利佈局與競爭生態,投下深遠的影響,也提醒所有業者,技術創新固然重要,但智慧財產權的保護更是企業永續發展的基石。